磁头DLC保护膜的研究现状

• 作者: 刘宏华 尹云飞 王平
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁头 类金刚石膜 结构模型 生长机理 表征方法
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 11-15
• 页数: 5页
• 分类号: TB3
• 字数: 5441字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2008.11.003

摘要

概述了应用于硬盘磁头表面的类金刚石薄膜(DLC)保护膜的性能要求、微观结构模型、生长机理及制备方法,总结了影响薄膜性能的因素和薄膜的表征方法,分析了当前影响类金刚石薄膜在磁头行业中应用的因素及可能的解决办法,并展望了应用于磁头表面等半导体行业的高性能DLC薄膜的制备前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王平	华南理工大学材料科学与工程学院	21	240	6.0	15.0
2	刘宏华	华南理工大学机械工程学院	1	9	1.0	1.0
3	尹云飞	华南理工大学材料科学与工程学院	2	11	2.0	2.0