氢致LaMg2Ni合金薄膜的光电性能变化

• 作者: 周广有 孙大林 方方 郑时有 陈国荣
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 薄膜 光电性能 氢 形貌
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 3813-3817
• 页数: 5页
• 分类号: O6
• 字数: 2261字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.06.084

摘要

采用电子束蒸发法沉积LaNi/Mg多层膜,再于350℃真空退火合金化的方法制备了厚度为375nm的LaMg2Ni合金薄膜.在吸、放氢过程中,该合金薄膜能够在高反射的金属态和透明的半导体态之间可逆地转变.在可见光波长范围内的平均透射率和电阻率在反射态和透明态之间的对比度大于104.利用扫描电子显微镜和原子力显微镜观察了吸放氢前后薄膜的表面及剖面形貌.结果表明,在氢化过程中薄膜表面的平整性降低且不可恢复,是脱氢态中出现低反射现象的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方方	复旦大学材料科学系	16	74	6.0	8.0
2	孙大林	复旦大学材料科学系	28	224	9.0	14.0
3	陈国荣	复旦大学材料科学系	35	270	10.0	14.0
4	郑时有	复旦大学材料科学系	6	35	3.0	5.0
5	周广有	复旦大学材料科学系	3	11	2.0	3.0