基于X射线衍射的GaN薄膜厚度的精确测量

• 作者: 孙长征 席光义 李洪涛 江洋 汪莱 罗毅 赵维 郝智彪 韩彦军
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: GaN薄膜 厚度测量 X射线衍射
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 7119-7125
• 页数: 7页
• 分类号: O6|O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.11.066

摘要

结合Williamson-Hall plot方法和线型分析方法的优点,提出了一种有效分离有限晶粒尺寸和非均匀应力等X射线衍射展宽效应的方法,可以用于GaN外延层厚度等参数的快速精确测量.用该方法对一系列在蓝宝石衬底上生长的厚度在0.7-4.2 μm的GaN外延膜进行了测量,并与椭圆偏振光谱法测量结果进行了比较,结果表明其差别<4%,反应了这种方法的准确性.