退火对含氮氟非晶碳膜结构及光学带隙的影响

• 作者: 王德安 肖剑荣 蒋爱华
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 含氮氟非晶碳膜 退火 光学带隙
• 年，卷（期）: 2008,（9）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 6013-6017
• 页数: 5页
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.09.108

摘要

采用射频等离子体增强化学气相沉积法,在不同条件下制备了含氮氟非晶碳膜,着重考察了退火温度对膜结构和光学带隙的影响.研究发现:在350℃时,膜仍很稳定,当退火温度达到400℃时,其内各化学键的相对含量发生很大的改变.膜的光学带隙随着退火温度的升高而增大,红外和拉曼光谱分析显示其原因是:退火使得膜内F的相对浓度降低,sp2相对含量升高,导致σ-σ*带边态密度降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖剑荣	桂林工学院数理系	9	25	3.0	4.0
2	蒋爱华	桂林工学院数理系	5	2	1.0	1.0
3	王德安	桂林工学院数理系	7	21	3.0	4.0