双面阶梯埋氧层部分SOI高压器件新结构

• 作者: 张波 李琦 李肇基
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 双面阶梯 埋氧层 调制 自热效应
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 6565-6570
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.10.079

摘要

提出了双面阶梯埋氧层部分绝缘硅(sjlicon on insulator,SIO)高压器件新结构.双面阶梯埋氧层的附加电场对表面电场的调制作用使表面电场达到近似理想的均匀分布,耗尽层通过源极下硅窗口进一步向硅衬底扩展,使埋氧层中纵向电场高达常规SOI结构的两倍,且缓解了常规SOI结构的自热效应.建立了漂移区电场的二维解析模型,获得了器件结构参数间的优化关系.结果表明,在导通电阻相近的情况下,双面阶梯埋氧层部分SOI结构击穿电压较常规SOI器件提高58%,温度降低10-30 K.