脉冲偏压电弧离子镀CNx薄膜研究

• 作者: 李红凯 林国强 董闯
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: CNx薄膜 脉冲偏压 电弧离子镀 硬度
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 6636-6642
• 页数: 7页
• 分类号: O6|O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.10.092

摘要

用脉冲偏压电弧离子镀通过控制不同的氮流量在(100)单晶Si基片上制备了不同成分的CNx薄膜.用光学显微镜,XPS,XRD,激光Raman和Nanoindenter等方法研究了薄膜的形貌、成分、结构和性能.结果表明,薄膜表面平整致密、氮含量随着氮流量的降低而降低、结构为非晶且为类金刚石薄膜;随着氮含量从18.9%降低到5.3%(摩尔百分比,全文同),薄膜的硬度和弹性模量单调增加而且增幅较大,其中硬度从15.0 GPa成倍增加到30.0 GPa;通过氮流量的调整能够敏感地改变薄膜中的sp3键的含量,是CNx薄膜的硬度和弹性模量获得大幅度凋整的本质原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	198	2023	23.0	34.0
2	林国强	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	59	562	13.0	21.0
3	李红凯	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	6	16	2.0	4.0