立方氮化硼薄膜的光学带隙

• 作者: 周涛 姚倩 张晓康 汪旭洋 邓金祥
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 立方氮化硼薄膜 光学带隙 K-K关系
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 6631-6635
• 页数: 5页
• 分类号: O6|O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.10.091

摘要

用射频溅射法在P型Si(100)衬底上沉积立方氮化硼(c-BN)薄膜,薄膜的成分由傅里叶变换红外谱标识,用紫外-可见分光光度计测量了c-BN薄膜的反射光谱,利用K-K(Kramers-Kroning)关系从反射谱计算出c-BN薄膜的光吸收系数,进而确定c-BN薄膜的光学带隙.对于立方相含量为55.4%的c-BN薄膜,光学带隙为5.38 eV.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓金祥	北京工业大学应用数理学院	45	150	7.0	9.0
2	周涛	北京工业大学应用数理学院	4	22	3.0	4.0
3	姚倩	北京工业大学应用数理学院	3	7	2.0	2.0
4	张晓康	兰州大学物理学院	2	7	2.0	2.0
5	汪旭洋	北京工业大学应用数理学院	2	7	2.0	2.0