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摘要:
用射频控共溅射方法在不同温度的单晶硅基片上生长薄膜,然后在800℃真空环境下对薄膜进行退火处理,成功获得了结晶状态良好的Zn2GeO4多晶薄膜.利用X射线衍射(XRD),X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构、成分和形貌分析,研究了基片温度对三者的影响.结果显示,当基片温度升高到400℃以上时,薄膜中的Zn2GeO4晶粒在(220)方向上显示出了明显的择优取向.当基片温度在500-600℃范围内,有利于GeO2结晶相的形成.XPS显示薄膜中存在着Zn2GeO4,GeO2,GeO,ZnO四种化合态.同时,随着基片温度的升高,晶粒尺寸增大且薄膜表面趋于平整.薄膜的光致发光在绿光带存在中心波长为530和550 nm两个峰,应该归因于主体材料Zn2GeO4中两个不同的Ge2+的发光中心.
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文献信息
篇名 磁控共溅射法制备的Zn2GeO4多晶薄膜结构及其光致发光研究
来源期刊 物理学报 学科 化学
关键词 射频磁控溅射 Zn2GeO4 荧光体
年,卷(期) 2008,(10) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向 页码范围 6507-6512
页数 6页 分类号 O6|O4
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.10.070
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 宁兆元 苏州大学物理科学与技术学院 70 528 12.0 18.0
2 江美福 苏州大学物理科学与技术学院 17 144 7.0 11.0
3 朱丽 苏州大学物理科学与技术学院 13 71 6.0 8.0
4 王振宁 苏州大学物理科学与技术学院 1 2 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
射频磁控溅射
Zn2GeO4
荧光体
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引文网络交叉学科
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物理学报
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