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磁控共溅射法制备的Zn2GeO4多晶薄膜结构及其光致发光研究
磁控共溅射法制备的Zn2GeO4多晶薄膜结构及其光致发光研究
作者:
宁兆元
朱丽
江美福
王振宁
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
射频磁控溅射
Zn2GeO4
荧光体
摘要:
用射频控共溅射方法在不同温度的单晶硅基片上生长薄膜,然后在800℃真空环境下对薄膜进行退火处理,成功获得了结晶状态良好的Zn2GeO4多晶薄膜.利用X射线衍射(XRD),X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构、成分和形貌分析,研究了基片温度对三者的影响.结果显示,当基片温度升高到400℃以上时,薄膜中的Zn2GeO4晶粒在(220)方向上显示出了明显的择优取向.当基片温度在500-600℃范围内,有利于GeO2结晶相的形成.XPS显示薄膜中存在着Zn2GeO4,GeO2,GeO,ZnO四种化合态.同时,随着基片温度的升高,晶粒尺寸增大且薄膜表面趋于平整.薄膜的光致发光在绿光带存在中心波长为530和550 nm两个峰,应该归因于主体材料Zn2GeO4中两个不同的Ge2+的发光中心.
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文献信息
篇名
磁控共溅射法制备的Zn2GeO4多晶薄膜结构及其光致发光研究
来源期刊
物理学报
学科
化学
关键词
射频磁控溅射
Zn2GeO4
荧光体
年,卷(期)
2008,(10)
所属期刊栏目
凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向
页码范围
6507-6512
页数
6页
分类号
O6|O4
字数
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1000-3290.2008.10.070
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
宁兆元
苏州大学物理科学与技术学院
70
528
12.0
18.0
2
江美福
苏州大学物理科学与技术学院
17
144
7.0
11.0
3
朱丽
苏州大学物理科学与技术学院
13
71
6.0
8.0
4
王振宁
苏州大学物理科学与技术学院
1
2
1.0
1.0
传播情况
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2008(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
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二级引证文献(0)
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二级引证文献(0)
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2014(1)
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2016(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
射频磁控溅射
Zn2GeO4
荧光体
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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