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摘要:
测试了硅衬底垂直结构芯片在不同空间角度上的电致发光(EL)谱.指出硅衬底垂直结构InGaAlN多量子阱发光二极管的EL谱中多个峰型来源于干涉现象,而不是来自于多个阱层的发光.干涉峰的疏密反映p型层厚度的一致性,干涉现象的强弱反映p型欧姆接触层反光能力的强弱.芯片法线方向附近发光最强干涉现象最明显,芯片侧边的发光几乎没有干涉现象且发光强度最弱.
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文献信息
篇名 硅衬底垂直结构InGaAlN多量子阱发光二极管电致发光谱的干涉现象研究
来源期刊 物理学报 学科 化学
关键词 InGaAlN 发光二极管 垂直结构 电致发光
年,卷(期) 2008,(12) 所属期刊栏目 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
研究方向 页码范围 7860-7864
页数 5页 分类号 O6
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2008.12.072
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 莫春兰 南昌大学教育部 24 177 7.0 12.0
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研究主题发展历程
节点文献
InGaAlN
发光二极管
垂直结构
电致发光
研究起点
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期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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