Ti基体上形成微弧氧化膜组成和结构的研究

• 作者: 刘福 孙德智 宋英 王福平
• 来源期刊: 燕山大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 微弧氧化 氧化膜 钛 XPS
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 材料与化学工程
• 页码范围: 4-8
• 页数: 5页
• 分类号: TG333.17
• 字数: 2820字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-791X.2009.01.002

摘要

在甘油磷酸钙和醋酸钙电解液中采用直流电源对纯Ti进行了微弧氧化.采用微弧氧化方法所制备的氧化膜具有粗糙多孔的结构,且微孔直径随着电压的增加而增大.AES分析表明在基体与氧化膜界面发生了扩散,从基体钛到氧化膜的表面氧的浓度逐渐增大,钛的浓度逐渐减小.XPS分析表明氧化膜的组成随着所施加的微弧氧化电压而改变,微弧氧化电压为200 V时TiO2、Ti2O3和TiO占Ti的原子百分比分别为72.61%、22.08%和5.31%;当微弧氧化电压为350 V时氧化膜表面Ti元素只由TiO2、Ti2O3,组成,且占Ti的原子百分比分别为85.48%、14.52%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙德智	哈尔滨工业大学市政环境工程学院	116	2357	25.0	41.0
2	王福平	哈尔滨工业大学应用化学系	82	808	17.0	23.0
3	宋英	哈尔滨工业大学应用化学系	36	306	10.0	16.0
4	刘福	哈尔滨工业大学材料科学与工程学院	6	53	5.0	6.0