三相界面反应机制在SOM法制备金属钽中的应用

• 作者: 李重和 钟庆东 陈朝轶 鲁雄刚
• 来源期刊: 中国有色金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金属钽 五氧化二钽 三相界线 熔盐电解 SOM法
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 矿业工程·冶金工程·化学
• 页码范围: 583-588
• 页数: 6页
• 分类号: TG146.4
• 字数: 3894字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-0609.2009.03.029

摘要

利用同体透氧膜(SOM)法电解还原Ta2O5制备金属钽,通过三相界面反应机制讨论了阴极微结构对电解过程及产物形貌的影响.结果表明:阴极片的颗粒尺寸与孔隙率是影响有效三相界线的重要因素;孔隙率大和粒度小均有利于电解还原的进行,孔隙率小会导致阴极产物形成致密的金属钽外层,阻碍阴极进一步脱氧;成型压力4 MPa时1150℃烧结2 h制备的阴极片具有合适的孔隙率和拉度,电化学活性良好,电解产物形貌均匀,氧含量低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	鲁雄刚	上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室	110	955	14.0	25.0
2	陈朝轶	上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室	80	377	11.0	15.0
4	钟庆东	上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室	50	259	9.0	12.0
7	李重和	上海大学上海市现代冶金与材料制备重点实验室	2	33	2.0	2.0