原子转移自由基聚合制备PMMA/POSS杂化材料

• 作者: 赵春宝 赵玮 金鸿
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 化学
• 关键词: 聚甲基丙烯酸甲酯 多面体低聚倍半硅氧烷 杂化材料 原子转移自由基聚合
• 年，卷（期）: 2009,（z2）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 226-229
• 分类号: O631.5
• 字数: 2938字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2009.z2.070

摘要

以八(γ-氯丙基)倍半硅氧烷(OCP-POSS)为引发剂,通过原子转移自由基聚合(ATRP)制备了PMMA/OCP-POSS有机/无机杂化材料.采用GPC、DSC和TGA对杂化材料的结构与性能进行了表征.结果表明,在DMF、异丙醇、甲苯等3种不同溶剂中均可合成分子量分布较窄的PMMA杂化材料.以DMF为溶剂,所得PMMA/OCP-POSS杂化材料的分子量分布系数可达到1.18.与分子量相当的线形PMMA相比,含OCP-POSS的PMMA杂化材料具有更高的玻璃化转变温度和热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金鸿	南京信息职业技术学院微电子学院	27	148	6.0	11.0
2	赵春宝	南京信息职业技术学院微电子学院	44	240	9.0	14.0
3	赵玮	南京信息职业技术学院微电子学院	22	63	3.0	7.0