电沉积非晶态镍磷镀层的结构及晶化过程

• 作者: 俞宏英 孙冬柏 李辉勤 王玉 郭金彪
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 非晶 晶化过程
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 表面改性
• 页码范围: 145-148,160
• 页数: 5页
• 分类号: TQ153.2
• 语种: 中文

摘要

对电沉积磷含量12.3wt%非晶态Ni-P镀层晶化过程进行了分析.利用X射线衍射仪(XRD)、差示扫描分析(DSC)、透射电镜(TEM)和高分辩透射电镜(HRTEM)研究了非晶态Ni-P合金镀层热处理前后的相转变和结构变化.结果表明,晶化过程分步进行,经历非晶→亚稳相→稳定相的转变.XRD和分析结果表明,270℃镀层开始晶化,亚稳相Ni12P5和Ni5P2析出,420℃时完全消失,转变为Ni3P和Ni稳定相.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	俞宏英	北京科技大学腐蚀与防护中心	90	930	18.0	24.0
2	李辉勤	北京科技大学腐蚀与防护中心	34	488	13.0	21.0
3	王玉	北京科技大学腐蚀与防护中心	10	72	6.0	8.0
4	郭金彪	北京科技大学腐蚀与防护中心	4	32	3.0	4.0