磁流变抛光工艺参数的研究

• 作者: 张家梁 成连民 李蓓智 杨建国
• 来源期刊: 机械
• 学科: 工学
• 关键词: 磁流变抛光 磁流变液 工艺参数 相对速度
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 设计与研究
• 页码范围: 11-13,16
• 页数: 4页
• 分类号: TG175
• 字数: 2415字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-0316.2009.06.005

摘要

磁流变抛光是一种新型的光学零件加工方法,它不仅可以精确控制抛光后光学零件的面型,还能得到较高的表面质量和较高的加工效率.本文在介绍磁流变抛光基本原理的基础上,重点分析了磁流变液与工件相对速度对磁流变抛光最终效果的影响规律,在一定速度大小范围内,随着相对速度的提高,抛光加工的效率也会随之提高,光学零件的表面粗糙度会随之降低,并且还提出在抛光过程中保持相对速度一致的必要性和保持相对速度一致的方法,通过实验验证了该方法的正确性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨建国	东华大学机械工程学院	263	2002	20.0	30.0
2	李蓓智	东华大学机械工程学院	172	1267	18.0	24.0
3	张家梁	东华大学机械工程学院	46	254	9.0	13.0
4	成连民	东华大学机械工程学院	2	4	1.0	2.0