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摘要:
在不同的射频负偏压作用下,利用微波电子回旋共振(ECR)等离子体源化学气相沉积技术在单晶硅表面进行制备类金刚石薄膜研究.利用傅立叶变换红外吸收光谱(FTIR)和原子力显微镜(ARM)对薄膜的结构成分和形貌进行了分析表征,同时对所制备的薄膜摩擦系数进行了测试.结果表明:所制备的薄膜具有典型的含H类金刚石结构特征,薄膜结构致密均匀、表面粗糙度小.随着负偏压的增大,红外光谱中2800 cm-1~3000 cm-1波段的C-H伸缩振动吸收峰的强度先升高后降低,在射频功率为50 W时达到最大,所对应的薄膜摩擦系数是先降低再升高,在射频功率为50 W时达到最小.
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文献信息
篇名 射频负偏压对沉积类金刚石薄膜结构和性能的影响
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 类金刚石薄膜 ECR 射频负偏压 结构 性能
年,卷(期) 2009,(2) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 38-41
页数 4页 分类号 TB43
字数 2461字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈强 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室 125 542 10.0 17.0
2 桑利军 北京印刷学院印刷包装材料与技术北京市重点实验室 14 53 5.0 6.0
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类金刚石薄膜
ECR
射频负偏压
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期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
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3
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