MOCVD法制备碳-氧化铝太阳能选择吸收涂层的研究

• 作者: 侯玉芝 李岩 王树茂 蒋利军 郝雷
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 太阳能 选择吸收涂层 MOCVD 吸收率
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TQ637|TK511
• 字数: 3343字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2009.03.004

摘要

目前,普遍采用射频溅射制备以氧化铝为介质基体的太阳能选择吸收涂层,但射频溅射成本高、效率低.以乙酰丙酮铝为前驱体,采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)方法,在不锈钢基体上制备碳一氧化铝太阳能选择吸收涂层,大大降低了涂层成本.研究了栽气成分、沉积时间对膜层成分和吸收率的影响.结果表明:在沉积温度为600℃、载气氧含量为3%、沉积时间4h时获得了吸收率α为0.91的涂层.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋利军		90	513	12.0	17.0
2	王树茂		48	183	8.0	10.0
3	李岩		22	137	8.0	10.0
4	侯玉芝		2	22	2.0	2.0
5	郝雷		13	42	3.0	6.0