电沉积ZnO薄膜光催化还原Cr(Ⅵ)

• 作者: 刘瑛 赵翠娟 陈玉叶 马玉燕 魏守强
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化锌 光催化还原 Cr(Ⅵ)
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153
• 字数: 2366字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2009.05.003

摘要

采用电沉积法在导电玻璃上制备了ZnO薄膜,用X-射线衍射仪和扫描电子显微镜对其进行了表征.研究了各种因素对电沉积ZnO薄膜光催化还原Cr(Ⅵ)的影响.结果表明,空穴清除剂的存在是光催化还原Cr(Ⅵ)的重要条件;酸性介质中,Cr(Ⅵ)光催化还原率最高;Cr(Ⅵ)光催化还原率随Cr(Ⅵ)浓度的减小而增加;NO3 、SO42-和Ni2+等共存离子明显抑制了Cr(Ⅵ)的还原;而Cu2+则有着显著的促进作用.在pH=4.0和c(柠檬酸)为1.2mmol/L的条件下,经过60min的反应后,0.1mmol/LCr(Ⅵ)在ZnO薄膜上的光催化还原率达到96%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏守强	沈阳理工大学环境与化学工程学院	23	255	8.0	15.0
2	刘瑛	沈阳理工大学环境与化学工程学院	14	106	7.0	9.0
3	马玉燕	沈阳理工大学环境与化学工程学院	4	32	3.0	4.0
4	陈玉叶	沈阳理工大学环境与化学工程学院	4	32	3.0	4.0
5	赵翠娟	沈阳理工大学环境与化学工程学院	2	10	2.0	2.0