RB SiC陶瓷的表面改性

• 作者: 唐惠东 谭寿洪
• 来源期刊: 陶瓷学报
• 学科: 工学
• 关键词: RB SiC PVD SiC涂层 表面粗糙度 散射损耗 反射率
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 页码范围: 146-150
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174.75+8.1
• 字数: 2476字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2278.2009.02.004

摘要

为了改善RB SiC陶瓷反射率较低的情况,利用RF磁控溅射法在RB SiC基底表面涂覆一层结构致密的PVD SiC涂层.采用XRD表征了PVD SiC涂层的晶化程度.利用AFM和表面轮廓仪观察了RB SiC基底和PVD SiC涂层抛光后的表面形貌和表面粗糙度,并在可见光和红外波段测量了反射率.结果表明,当采用PVD SiC涂层对RB SiC基底表面改性后,抛光后其表面缺陷明显减少,表面粗糙度Ra为0.809nm,反射率提高约为2%,最高可达99.2%,改性效果明显.PVD SiC涂层有望在可见光和红外波段获得实际应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谭寿洪	中国科学院上海硅酸盐研究所	45	1121	20.0	33.0
2	唐惠东	常州工程职业技术学院材料工程技术系	30	93	5.0	7.0