多壁碳纳米管修饰碳糊电极吸附伏安法测定痕量钪

• 作者: 张军 费俊杰 邓培红 黎拒难
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 多壁碳纳米管 化学修饰电极 吸附伏安法 钪
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 94-99
• 页数: 6页
• 分类号: O657.1
• 字数: 4223字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2009.01.021

摘要

制备了多壁碳纳米管修饰碳糊电极并研究了钪-茜素红络合物在该电极上的吸附伏安行为,建立了一种测定痕量钪的新方法,采用二阶导数线性扫描伏安法进行分析. 结果表明,在0.32 mol/L乙酸-0.064 mol/L邻苯二甲酸氢钾缓冲液(pH=4.0)中,在100 mV富集90 s,从0～-1 000 mV范围以200 mV/s的速率线性扫描,络合物吸附在碳纳米管修饰碳糊电极表面,于-518 mV(vs.SCE)处产生1灵敏的溶出峰,为络合物中配体茜素红的还原所产生. 络合物的峰电流与钪的浓度在4.0×10-11～6.0×10-7 mol/L范围内呈良好的线性关系,检出限(S/N=3)为2.0×10-11 mol/L(富集时间3 min). 方法用于岩矿样品中痕量钪的测定,结果满意.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邓培红	衡阳师范学院化学与材料科学系	58	172	9.0	10.0
2	费俊杰	湘潭大学化学学院	31	117	7.0	9.0
3	黎拒难	湘潭大学化学学院	63	356	10.0	14.0
4	张军	衡阳师范学院化学与材料科学系	27	113	7.0	9.0