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摘要:
随着大规模集成电路的不断发展,互连线失效已经成为影响集成电路可靠性的主要因素之一.在铝互连线中添加铜元素是常用的改善电迁移性能的方法,采用直流磁控溅射法用铝及铝铜合金靶材在硅基片上沉积了薄膜,并通过光刻、刻蚀制成互连线,通过电迁移加速寿命试验研究了温度和电流密度对Al-Cu互连线电迁移寿命的影响,分析了材料电迁移的热力学过程,推导了Al-Cu互连线的电迁移失效中值时间计算公式.
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内容分析
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文献信息
篇名 铝铜互连线电迁移失效的研究
来源期刊 稀有金属 学科 工学
关键词 互连线 电迁移 加速寿命试验
年,卷(期) 2009,(4) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 530-533
页数 4页 分类号 TN304
字数 1737字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0258-7076.2009.04.015
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 毛昌辉 60 564 12.0 21.0
2 陈军 1 14 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
互连线
电迁移
加速寿命试验
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