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铝铜互连线电迁移失效的研究
铝铜互连线电迁移失效的研究
作者:
毛昌辉
陈军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
互连线
电迁移
加速寿命试验
摘要:
随着大规模集成电路的不断发展,互连线失效已经成为影响集成电路可靠性的主要因素之一.在铝互连线中添加铜元素是常用的改善电迁移性能的方法,采用直流磁控溅射法用铝及铝铜合金靶材在硅基片上沉积了薄膜,并通过光刻、刻蚀制成互连线,通过电迁移加速寿命试验研究了温度和电流密度对Al-Cu互连线电迁移寿命的影响,分析了材料电迁移的热力学过程,推导了Al-Cu互连线的电迁移失效中值时间计算公式.
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篇名
铝铜互连线电迁移失效的研究
来源期刊
稀有金属
学科
工学
关键词
互连线
电迁移
加速寿命试验
年,卷(期)
2009,(4)
所属期刊栏目
研究论文
研究方向
页码范围
530-533
页数
4页
分类号
TN304
字数
1737字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.0258-7076.2009.04.015
五维指标
作者信息
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姓名
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1
毛昌辉
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主办单位:
北京有色金属研究总院
出版周期:
月刊
ISSN:
0258-7076
CN:
11-2111/TF
开本:
大16开
出版地:
北京新街口外大街2号
邮发代号:
82-167
创刊时间:
1977
语种:
chi
出版文献量(篇)
4172
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13
总被引数(次)
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