元素成分对磁控溅射TiNi薄膜结构性能的影响及其控制

• 作者: 刘二强 唐宾 田林海 鲍明东
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 钛镍 形状记忆合金 薄膜 成分 控制 光发射谱
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 真空镀
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 3792字
• 语种: 中文

摘要

描述了TiNi形状记忆合金薄膜的一般特性及成分对其组织及性能的重要影响.磁控溅射法是应用最为广泛的制备TiNi基形状记忆薄膜的方法之一,但由于Ti与Ni的溅射产额不同,很难得到理想成分的TiNi薄膜.目前主要采用改变工艺参数或靶材成分补偿的方法控制薄膜的成分.借鉴反应磁控溅射沉积薄膜时成分控制方法,提出了一种利用溅射靶表面光发射谱的控制技术,理论上可以达到精确检测或控制TiNi形状记忆合金薄膜成分的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田林海	太原理工大学表面工程研究所	46	244	9.0	13.0
2	唐宾	太原理工大学表面工程研究所	121	953	15.0	23.0
3	鲍明东	宁波工程学院材料工程研究所	29	102	6.0	8.0
4	刘二强	太原理工大学表面工程研究所	4	8	2.0	2.0