CVD设备气流不稳定因素分析及解决方案

• 作者: 刘永立
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相淀积 质量流量计 电子压力控制计 调压阀
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 封装、测试与设备
• 页码范围: 168-171
• 页数: 4页
• 分类号: TN305
• 字数: 3711字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2009.02.017

摘要

为解决CVD设备在工艺过程中有时存在工艺参数周期性波动的现象,进行了相关分析.发现使用高压钢瓶存储的高纯气态源时,常使用单个调压阀和质量流量计(MFC)来减压和控制流量.而高压差和小流量工作常会导致调压阀的周期性开启,由此产生周期性的管道压力波动.由于MFC从设计上无法完全缓冲压力波动,进而引起流量波动,造成淀积材料参数的波动.针对这一问题提出采用改变气源、增加稳压装置等作为解决方法,并归纳为三种气路改动方案.通过在一台设备上应用,将波动范围由+120%/-40%缩小至+2%/-4%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘永立	中国电子科技集团公司第十三研究所	6	11	2.0	3.0