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收缩电阻的高频特性研究
收缩电阻的高频特性研究
作者:
樊军伟
许良军
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
多接触斑点
收缩电阻
趋肤效应
趋肤深度
摘要:
文章重点分析接触界面处的收缩电阻与信号频率之间的关系。首先推导出了收缩电阻关于频率的理论表达式,然后依据实验室所采用的触头尺寸以及直流情况下的实验数据,可以直观的得到收缩电阻关于频率的变化规律。这些研究成果对今后继续深入研究接触界面的腐蚀与传输高频数字信号完整性之间的关系,提供了很好的依据。
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文献信息
篇名
收缩电阻的高频特性研究
来源期刊
中国材料科技与设备
学科
工学
关键词
多接触斑点
收缩电阻
趋肤效应
趋肤深度
年,卷(期)
2009,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
64-66
页数
3页
分类号
TM501.3
字数
语种
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
许良军
北京邮电大学自动化学院
38
156
5.0
11.0
2
樊军伟
北京邮电大学自动化学院
1
0
0.0
0.0
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
引文网络
二级参考文献
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(0)
二级引证文献
(0)
2009(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
多接触斑点
收缩电阻
趋肤效应
趋肤深度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国材料科技与设备
主办单位:
北京沃玉科技发展中心
出版周期:
双月刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
北京市回龙观文化大社区流星花园2区9-3
邮发代号:
创刊时间:
语种:
出版文献量(篇)
2138
总下载数(次)
20
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