一种统一的硬件加速自适应EWA Splatting算法

• 作者: 于洋 夏佳志 张龙 彭群 郑文庭 陈为
• 来源期刊: 计算机学报
• 学科: 工学
• 关键词: 体绘制 点绘制 Splatting EWA滤波 反走样 硬件加速
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文与技术报告
• 页码范围: 1571-1581
• 页数: 11页
• 分类号: TP391
• 字数: 8869字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1016.2009.01571

摘要

提出了一种新的硬件加速自适应EWA(椭圆加权平均)Splatting算法框架,可同时适用于三维体数据和点模型.算法将高斯重建核与低通图像滤波核结合,得到反走样、无模糊的高质量图像.提出一种高效的白适应滤波方法,减少了高质量EWA Splatting的计算量.提出了自适应体EWA Splatting的3种数据存储模式和一系列高级特性,其中包括交互式分类、体一面混合绘制策略和自适应浮点累加.展示了如何在可编程图形处理单元(GPU)中计算体数据和点模型数据的EWA Splat基元.实验表明,文中的方法在一台普通微机上每秒可绘制1500万～2000万个基元,达到较高的图像质量与交互的绘制速度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张龙	杭州电子科技大学图形图像研究所	6	25	3.0	5.0