脑结构形态学改变是精神分裂症的遗传内表型

• 作者: 刘协和 吕粟 崔立谦 李名立 李涛 王强 蒋莉君 邓伟 陈壮飞 马小红 黄朝华 龚启勇
• 来源期刊: 中华医学遗传学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 精神分裂症 同胞 磁共振成像 脑结构形态学改变 遗传内表型
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 490-494
• 页数: 5页
• 分类号: R74
• 字数: 5739字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3760/cma.j.issn.1003-9406.2009.05.002

摘要

目的 通过对首发精神分裂症患者及其未患病同胞的磁共振成像脑结构分析,探讨遗传因素对脑结构改变的影响程度,为发现精神分裂症的遗传内表型提供实验依据.方法 采用优化的基于体素的形态学研究方法对15例首发精神分裂症患者、19名首发精神分裂症患者未患病同胞及38名正常对照的大脑磁共振图像进行处理,采用一般线性模型进行统计分析.结果 与正常对照组相比,患者组在双侧颢叶、双侧枕叶、左侧岛叶、左侧额叶额上回及右豆状核苍白球灰质有明显减少;在双侧顶叶及双侧边缘叶扣带回灰质增加;未患病同胞组在右侧颞叶、双侧枕叶、左侧岛叶及左侧额叶中央前回等区域灰质明显减少;在左侧顶叶及双侧小脑后叶灰质增加.患者较同胞左侧顶叶楔前叶灰质有增加,未发现两者其他区域存在明显差异.结论 精神分裂症患者及其同胞存在相似的脑结构异常,遗传因素可能是导致精神分裂症脑结构异常的重要因素,提示脑结构形态学改变是精神分裂症的遗传内表型.