WS2/MoS2/C复合薄膜的磨损性能研究

• 作者: 何丹农 余震 周磊 尹桂林 王玉东
• 来源期刊: 上海金属
• 学科: 工学
• 关键词: WS2/MoS2/C复合薄膜 磁控溅射 磨损性能
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 材料组织与性能
• 页码范围: 28-31
• 页数: 4页
• 分类号: TG1
• 字数: 1529字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7208.2009.06.007

摘要

采用磁控溅射法,使用WS2/MoS2复合靶材,通过与乙炔气体反应溅射,制备WS2/MoS2/C复合薄膜,利用X射线衍射对薄膜的成分结构进行分析,采用MFT-4000 材料表面性能试验仪在室温大气环境(相对湿度60%)下评价薄膜的摩擦磨损性能,使用Axio CSM 700共聚焦显微镜观察WS2/MoS2/C复合薄膜磨损表面磨痕形貌,结果表明,WS2/MoS2/C复合薄膜结构致密,在潮湿大气中抗磨损性能比MoS2磁控溅射薄膜有显著提高,在30min往复摩擦后复合薄膜未发生磨屑脱落.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何丹农	上海交通大学材料科学与工程学院	116	1094	18.0	28.0
3	周磊	上海交通大学材料科学与工程学院	29	127	8.0	10.0
4	王玉东	上海交通大学材料科学与工程学院	53	235	9.0	14.0
5	余震	上海交通大学材料科学与工程学院	10	158	5.0	10.0
8	尹桂林		13	75	4.0	8.0