磁控溅射制备TiAlCrN硬质薄膜及其抗腐蚀性能

• 作者: 宋庆功 程立军
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 反应磁控共溅射 TiAlcrN薄膜 原子力显微镜 抗腐蚀性 Cr含量
• 年，卷（期）: 2009,（9）
• 所属期刊栏目: 科技关注
• 页码范围: 16-18
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2511字
• 语种: 中文

摘要

采用反应磁控共溅射的方法,通过改变Cr靶溅射功率,在不锈钢基体上沉积不同Cr含量TiAlcrN薄膜.采用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌;采用动电位极化试验研究薄膜的电化学腐蚀行为.结果表明:沉积的TiAlCrN薄膜表面平整、光滑、致密,无孔洞和突起等缺陷,晶粒细小,粗糙度低;TiAlcrN薄膜的抗腐蚀性好于不锈钢和TiAlN薄膜,且随Cr含量增加而增强.Cr含量为25.5%(原子分数)试样成膜质量最好,其抗腐蚀性约为不锈钢的15.0倍,约为TiAlN薄膜的7.7倍.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋庆功	中国民航大学理学院	62	168	7.0	9.0
2	程立军	河北工业大学理学院	2	15	2.0	2.0