电容层析成像技术中影响图像重建质量的因素分析

• 作者: 高彦丽
• 来源期刊: 华东交通大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 电容层析成像 图像重建 像素 有限元分析
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 电子电气与计算机科学
• 页码范围: 62-66
• 页数: 5页
• 分类号: TP212
• 字数: 1862字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-0523.2009.01.013

摘要

电容层析成像技术(ECT)作为一种多相流参数检测技术,具有快速、非侵入、结构简单、无辐射、成本低等特点,而图像重建质量和速度是阻碍电容层析成像技术工业应用的关键性问题,本文讨论了影响图像重建的因素,在采用线性反投影算法、正则化求逆算法以及迭代法的基础上,研究了单元划分数目、有限元形状、极板数以及介电常数四种因素对成像质量的影响.研究结果对获得最佳成像效果具有一定的指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高彦丽	华东交通大学电气与电子工程学院	25	197	9.0	13.0