氨处理抑制SiO2/ZrO2薄膜膜间渗透

• 作者: 向霞 吕海兵 尹伟 王毕艺 祖小涛 章春来 蒋晓东 袁晓东 郑万国
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 溶胶-凝胶 SiO2/ZrO2 氨处理 椭偏模拟 膜间渗透 激光损伤阈值
• 年，卷（期）: 2009,（8）
• 所属期刊栏目: 化学
• 页码范围: 711-715
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 语种: 中文

摘要

以正硅酸乙酯和丙醇锆为原料,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO2/ZrO2双层膜,样品1镀完SiO2后直接镀ZrO2,样品2镀完SiO2经氨处理后再镀ZrO2.研究表明,ψ和△两个椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现氨处理可有效抑制SiO2/ZrO2双层膜之间的渗透,氨处理后渗透层减少近45 nm.利用激光束对两种样品进行了损伤阈值的测试,用光学显微镜观察损伤形貌,结果发现两者损伤阈值分别为14.8和15.03 J/cm2,损伤形貌均为熔融型.