二氧化硅纳米颗粒的反应离子刻蚀及其在硅纳米针尖制备中的应用

• 作者: 李志宏 李成垚 江洵 王玮 赵瑜 高旻
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 化学
• 关键词: 纳米颗粒单层膜 纳米针尖阵列 反应离子刻蚀 场发射效应
• 年，卷（期）: 2009,（6）
• 所属期刊栏目: 纳米技术
• 页码范围: 515-518
• 页数: 4页
• 分类号: O648
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2009.06.007

摘要

系统地研究了硅衬底上二氧化硅纳米颗粒的反应离子刻蚀(RIE)过程,并在此基础上制备了可用于场发射的硅纳米针尖阵列.首先,采用改进的蒸发法在硅衬底上实现二氧化硅纳米颗粒的单层密排结构,再采用典型的刻蚀二氧化硅的RIE技术同时刻蚀硅衬底和二氧化硅纳米颗粒,在对纳米颗粒尺寸随刻蚀进行而改变的电镜照片分析的基础上,获得了相应的二氧化硅纳米颗粒刻蚀模型,计算得到横向和纵向的刻蚀速率;当刻蚀后的二氧化硅纳米颗粒从衬底上脱落后,进一步对硅衬底的刻蚀可以得到锐利的硅纳米针尖阵列,初步的实验结果表明,所制备的硅纳米针尖具有较好的场发射特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵瑜	北京大学微电子学研究院	3	18	2.0	3.0
2	江洵	北京大学微电子学研究院	1	4	1.0	1.0
3	李成垚		1	4	1.0	1.0
4	高旻		1	4	1.0	1.0