射频磁控溅射参数对AIN薄膜光学性能的影响

• 作者: 侯兴刚 吉亚萍 孙刚峰 徐清 林国强 董闯 黄美东
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: AIN薄膜 透射谱 折射率 沉积速率
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: TM206|O484
• 字数: 2705字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2009.02.007

摘要

采用高真空射频磁控溅射技术,在玻璃基片上,分别于不同沉积条件下制备了AIN系列薄膜,测量了从紫外到近红外波段AIN系列薄膜的透射率谱线,利用一种较简单的透射谱包络线法,对薄膜的光学常数进行拟合分析.研究表明,气体流量和工作气压是影响薄膜光学性能的重要参数;在镀膜过程中,增加氮气流量能使铝充分地与氮气结合,有利于薄膜折射率的提高,而在较低的工作气压下获得的薄膜的折射率较大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯	大连理工大学三束国家重点实验室	198	2023	23.0	34.0
2	黄美东	天津师范大学物理与电子信息学院	56	185	7.0	10.0
3	徐清	天津师范大学物理与电子信息学院	2	3	1.0	1.0
4	侯兴刚	天津师范大学物理与电子信息学院	12	24	3.0	3.0
5	孙刚峰	天津师范大学物理与电子信息学院	1	3	1.0	1.0
6	吉亚萍	天津师范大学物理与电子信息学院	2	5	2.0	2.0
7	林国强	大连理工大学三束国家重点实验室	59	562	13.0	21.0