磁过滤直流真空阴极弧制备含铬类金刚石膜的结构及其性能研究

• 作者: 徐桂东 沈丽如 祝土富 金凡亚
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 磁过滤真宅阴极弧 含铬DLC膜
• 年，卷（期）: 2009,（11）
• 所属期刊栏目: 表面工程
• 页码范围: 74-79
• 页数: 6页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2009.11.017

摘要

采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在单晶硅片、载玻片、不锈钢片基体上制备了含铬类金刚石(Cr-DLC)膜.用光学显微镜、椭偏仪、分光光度计、X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射能谱(XRD)、Raman光谱、纳米硬度计、摩擦磨损仪、洛氏硬度计检测了薄膜的组分结构、光学、力学等相关特性.结果表明,硅片上的薄膜厚度为47.6nm,碳含量为89%,s p~3键占碳含量的55.15%.不锈钢片上的薄膜具有典型的DLC膜Raman光谱特征,在空气中的摩擦系数约为0.1,耐磨性能优良,膜与基体的结合性能良好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金凡亚		57	226	8.0	12.0
2	徐桂东		7	87	4.0	7.0
3	沈丽如		52	377	11.0	16.0
4	祝土富		5	48	4.0	5.0