HTPB/ADN推进剂反应气孔产生机理研究

• 作者: 庞维强 张楠楠 李勇宏 王晓红 胥会祥
• 来源期刊: 含能材料
• 学科: 化学
• 关键词: 分析化学 氮丙啶类键合剂 HTPB/ADN推进剂 反应气孔 相互作用 反应机理
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 505-509
• 页数: 5页
• 分类号: TJ763|V512|O65
• 字数: 3109字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-9941.2009.05.002

摘要

为揭示HTPB/ADN/AP/Al推进剂产生气孔的原因,制备了一系列含ADN和TEA、T-313、MAPO、HX-752等键合剂的推进剂样品,试验确定与ADN反应产生气孔的组分,并通过DSC/TG-IR/MS联用仪分析了产生气孔的反应机理.结果表明,含固化剂TDI、IPDI和醇胺类键合剂TEA、T-313的推进剂样品不产生气孔,而含氮丙啶类键合剂MAPO、HX-752的样品固化后均出现气孔.DSC法证实MAPO与ADN产生强烈的作用,使ADN的主要放热分解峰温度降低99.7 ℃.在50 ℃,MAPO与ADN混合物(质量比1:1)加热2 h的过程形成了气体产物: N_2O、NO_2,并通过质谱检测到其存在.分析认为,推进剂中氮丙啶类键合剂促使了ADN的分解,形成反应气孔.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庞维强		62	428	11.0	16.0
2	胥会祥		54	441	12.0	16.0
3	王晓红		32	171	8.0	10.0
4	李勇宏		18	126	8.0	10.0
5	张楠楠		5	23	3.0	4.0