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0.35μm SiGe BiCMOS 10 Gb/s激光驱动芯片设计
0.35μm SiGe BiCMOS 10 Gb/s激光驱动芯片设计
作者:
冯军
吴松昌
李伟
章丽
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
激光驱动芯片
MOS-HBT结构
锗硅BiCMOS工艺
摘要:
讨论一款基于SiGe BiCMOS工艺工作速率为10 Gb/s激光驱动芯片的设计.该激光驱动芯片包括输入缓冲、驱动放大电路和输出级电路3个部分.输入缓冲、驱动放大电路采用电流模电路,满足高速数据传输和放大的能力.输出级电路结构采用新型的MOS-HBT共源共栅结构可以降低米勒效应减小输入电容,从而使激光驱动芯片工作在10 Gb/s时也能达到良好的性能.主电路电源电压为3.3 V,输出级电路供电电压为5.5 V,确保激光器有足够的电压摆幅.芯片总面积(包括焊盘)为600μm×800μm,,测试表明当输入10 Gb/s的非归零随机码,输出级电源电压为5.5 V时,电路总功耗为660 mw,在50 Ω负载上可以提供3 V的驱动电压(相应的驱动电流为60mA).测试眼图清晰,可以很好地满足SDH STM64/SONNET OC192和10 Gb/s以太网的模板要求.
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文献信息
篇名
0.35μm SiGe BiCMOS 10 Gb/s激光驱动芯片设计
来源期刊
东南大学学报(英文版)
学科
工学
关键词
激光驱动芯片
MOS-HBT结构
锗硅BiCMOS工艺
年,卷(期)
2009,(3)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
309-312
页数
4页
分类号
TN722
字数
409字
语种
英文
DOI
10.3969/j.issn.1003-7985.2009.03.005
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
李伟
东南大学射频与光电集成电路研究所
135
939
14.0
23.0
2
冯军
东南大学射频与光电集成电路研究所
77
348
9.0
12.0
3
章丽
东南大学射频与光电集成电路研究所
36
217
9.0
12.0
4
吴松昌
东南大学射频与光电集成电路研究所
1
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传播情况
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1993(1)
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二级参考文献(0)
2005(2)
参考文献(2)
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参考文献(2)
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2009(0)
参考文献(0)
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引证文献(0)
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2015(1)
引证文献(1)
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研究主题发展历程
节点文献
激光驱动芯片
MOS-HBT结构
锗硅BiCMOS工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
东南大学学报(英文版)
主办单位:
东南大学
出版周期:
季刊
ISSN:
1003-7985
CN:
32-1325/N
开本:
大16开
出版地:
南京四牌楼2号
邮发代号:
创刊时间:
1984
语种:
eng
出版文献量(篇)
2004
总下载数(次)
1
总被引数(次)
8843
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