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摘要:
讨论一款基于SiGe BiCMOS工艺工作速率为10 Gb/s激光驱动芯片的设计.该激光驱动芯片包括输入缓冲、驱动放大电路和输出级电路3个部分.输入缓冲、驱动放大电路采用电流模电路,满足高速数据传输和放大的能力.输出级电路结构采用新型的MOS-HBT共源共栅结构可以降低米勒效应减小输入电容,从而使激光驱动芯片工作在10 Gb/s时也能达到良好的性能.主电路电源电压为3.3 V,输出级电路供电电压为5.5 V,确保激光器有足够的电压摆幅.芯片总面积(包括焊盘)为600μm×800μm,,测试表明当输入10 Gb/s的非归零随机码,输出级电源电压为5.5 V时,电路总功耗为660 mw,在50 Ω负载上可以提供3 V的驱动电压(相应的驱动电流为60mA).测试眼图清晰,可以很好地满足SDH STM64/SONNET OC192和10 Gb/s以太网的模板要求.
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文献信息
篇名 0.35μm SiGe BiCMOS 10 Gb/s激光驱动芯片设计
来源期刊 东南大学学报(英文版) 学科 工学
关键词 激光驱动芯片 MOS-HBT结构 锗硅BiCMOS工艺
年,卷(期) 2009,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 309-312
页数 4页 分类号 TN722
字数 409字 语种 英文
DOI 10.3969/j.issn.1003-7985.2009.03.005
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 李伟 东南大学射频与光电集成电路研究所 135 939 14.0 23.0
2 冯军 东南大学射频与光电集成电路研究所 77 348 9.0 12.0
3 章丽 东南大学射频与光电集成电路研究所 36 217 9.0 12.0
4 吴松昌 东南大学射频与光电集成电路研究所 1 1 1.0 1.0
传播情况
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2015(1)
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研究主题发展历程
节点文献
激光驱动芯片
MOS-HBT结构
锗硅BiCMOS工艺
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
东南大学学报(英文版)
季刊
1003-7985
32-1325/N
大16开
南京四牌楼2号
1984
eng
出版文献量(篇)
2004
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1
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8843
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