熔盐法合成金属氯化物-石墨插层化合物的判据

• 作者: 任慧 康飞宇 沈万慈 焦清介
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 化学
• 关键词: 石墨层间化合物 合成 键参数 熔盐法
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 18-22
• 页数: 5页
• 分类号: TQ165|O643.12
• 字数: 894字
• 语种: 中文
• DOI: 10.1016/S1872-5805(08)60032-3

摘要

研究了熔融盐状态下金属氯化物-石墨层间化合物的合成判据.根据插层反应热动力学及化学键理论,选取元素的电负性和离子势作为键参数,并设计键参数函数λ为客体材料的遴选判据.基于键参数函数图对金属氯化物发生插层反应的难易程度和产物稳定性进行理论预估.研究结果表明:键参数函数图中λ≤1.2区域内的金属氯化物在700℃以下即可发生插层反应,且所得产物较为稳定;在1.2≤λ≤1.8区域内相应的客体材料在低温下很难单独插入石墨层间,常与低熔点氯化物形成共熔体后一起插入石墨层间;在λ≥1.8区域内大多为碱金属氯化物和碱土金属氯化物,理论分析认为这类物质的插层反应不适宜采用熔盐法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	焦清介	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	178	1313	16.0	21.0
2	任慧	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	61	597	14.0	22.0
6	康飞宇	清华大学深圳研究生院	156	2338	29.0	42.0
7	沈万慈	清华大学深圳研究生院	59	1170	17.0	32.0