偏压对磁控溅射纯Cr镀层组织形貌及耐腐蚀性能的影响

• 作者: 乔泳彭 曹政 李洪涛 蒋百灵 陈雪
• 来源期刊: 西安理工大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 偏压 磁控溅射 纯Cr镀层 组织形貌 耐腐蚀性能
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 页码范围: 141-145
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.2
• 字数: 3606字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-4710.2009.02.003

摘要

基于磁控溅射离子镀技术在不同偏压下于单晶硅和45钢基体上制备了纯Cr镀层.采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪和CH1660B电化学工作站(极化曲线)分析了纯Cr镀层表面、截面微观形貌和择优生长取向的变化规律,并考察了纯Cr镀层的耐腐蚀性能.结果表明:偏压显著影响着纯Cr镀层的组织结构、择优取向以及耐腐蚀性能.基体偏压值大于90V后纯Cr镀层的组织结构由柱状晶向等轴晶转变纯Cr镀层组织形貌由柱状晶逐渐向等轴晶转变,随着偏压值增大,纯Cr镀层晶体择优生长面由(200)晶面变为(110)晶面,镀层耐腐蚀性能逐渐增强;且偏压值为120V时,镀层耐腐蚀性能表现最优;纯Cr镀层中晶体颗粒尺寸的减小和致密度的增加是耐腐蚀性提高的主要原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋百灵	西安理工大学材料科学与工程学院	241	5240	40.0	64.0
2	李洪涛	西安理工大学材料科学与工程学院	23	146	8.0	10.0
3	曹政	西安理工大学材料科学与工程学院	12	52	5.0	6.0
4	陈雪	西安理工大学材料科学与工程学院	3	13	2.0	3.0
5	乔泳彭	西安理工大学材料科学与工程学院	4	13	2.0	3.0