可实现气氛控制的真空渗碳渗氮炉

• 作者: 韩伯群
• 来源期刊: 热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 气氛控制 渗碳 渗氮 热传导探头 氧探头
• 年，卷（期）: 2009,（5）
• 所属期刊栏目: 设备
• 页码范围: 71-75
• 页数: 5页
• 分类号: TG155.7
• 字数: 3231字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1690.2009.05.017

摘要

一种可实现气氛控制的真空渗碳或渗氮炉,采用热传导探头和氧探头双探头控制法进行气氛碳势或氮势的闭环控制.当工件形状与装炉量发生变化时,能自动调节原料气的供给量,从而提高了渗碳的均匀性,并有效消除积炭,工艺稳定性和再现性好.这种炉子可广泛用于高温渗碳、低温渗碳、高浓度渗碳、碳氮共渗、氮碳共渗、渗氮等表面改性处理.