工艺参数对Si深槽刻蚀的影响

• 作者: 孙金池 杨小兵 王传敏
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: Bosch技术 Si深槽刻蚀 刻蚀/钝化比 长草效应 刻蚀和钝化工艺重叠时间 钝化气体
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: MEMS器件与技术
• 页码范围: 424-427
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2|TN304.12
• 字数: 2004字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-4776.2009.07.007

摘要

采用Bosch技术研究了在Si深槽刻蚀中刻蚀/钝化比、刻蚀阶段钝化气体保护时间、刻蚀和钝化工艺重叠时间等工艺参数对刻蚀结果的影响.通过不同工艺条件的试验,发现刻蚀钝化比是影响侧壁结构的主要因素,其大小直接影响了深槽的垂直度;适当增加刻蚀阶段钝化气体通入时间对减小线宽损失有很大的作用,但增加过多会产生长草效应;合适的刻蚀和钝化工艺重叠时间,不仅可以减小侧壁表面的起伏度,还可以一定程度上减小线宽损失.采用刻蚀/钝化比为7:5、刻蚀阶段钝化气体通入时间为25 min、刻蚀、钝化工艺重叠时间分别为0.5、1 S的工艺条件,成功地实现了一个垂直度达(90±0.1) °、深40μm、线宽损失小于50 nm的Si深槽刻蚀结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王传敏		3	19	2.0	3.0
2	杨小兵		2	12	1.0	2.0
3	孙金池		1	12	1.0	1.0