高反膜镀制工艺研究的新进展

• 作者: 刘雄英 戴晋福 朱建明 邓婷 黄光周
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 高反膜 反射率 制备工艺 损伤阈值
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 30-36
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 8586字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2009.03.007

摘要

叙述了近几年国内外的研究进展,包括高反膜几种不同的制备工艺,如电子束蒸发沉积、离子束辅助沉积、离子束溅射沉积和溶胶-凝胶沉积法等,分析了各种制备方法及工艺的特点;针对高反膜的抗激光损伤阈值低从而影响激光器输出功率的问题,讨论了提高损伤阈值的途径;最后归纳了各种制备工艺的优缺点,并探讨了进一步提高薄膜反射率的可能性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄光周	华南理工大学电子与信息学院	26	189	9.0	13.0
2	刘雄英	华南理工大学电子与信息学院	33	354	11.0	18.0
3	朱建明		3	33	3.0	3.0
4	戴晋福		3	33	3.0	3.0
5	邓婷	华南理工大学电子与信息学院	8	26	3.0	5.0