低雷诺数模型模拟UV反应器湍流流场

• 作者: 李茹 邓保庆 陈杰勇
• 来源期刊: 曲阜师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外光消毒反应器 数值模拟 湍流 低雷诺数k-ε模型
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 页码范围: 53-56
• 页数: 4页
• 分类号: TU991.25
• 字数: 2170字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5337.2009.03.012

摘要

依据低雷诺数k-ε模型,用CFD商业软件FLUENT,对UV消毒反应器进行数值模拟.UV消毒反应器结构的设计可以在很大程度上影响到饮用水的消毒水平,并且影响到了反应器的运行维护费用,因此优化反应器的结构设计十分重要.结果表明,运用低雷诺数k-ε模型模拟UV流场得到的结果能很好地符合实验得到的结果.因此,低雷诺数k-ε模型可以作为分析UV消毒反应器内的流场分布的可靠模型,该模型可以应用于分析不同结构的UV消毒反应器内的流动情况,帮助改善反应器的结构设计以达到改进消毒效果的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈杰勇	上海理工大学城市建设与环境工程学院	2	0	0.0	0.0
2	邓保庆	上海理工大学城市建设与环境工程学院	22	52	4.0	6.0
3	李茹	上海理工大学城市建设与环境工程学院	2	0	0.0	0.0