磁控共溅射制备Ti-Al-Nb薄膜热处理后的组织形貌

• 作者: 何亮 来赟晟 林文松
• 来源期刊: 热处理
• 学科: 工学
• 关键词: Ti-Al-Nb 磁控溅射 真空热处理
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 48-50
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 2169字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-1690.2009.03.011

摘要

采用磁控共溅法制备了Ti-Al-Nb合金薄膜,并将所制备的薄膜在不同温度进行真空热处理,比较了经不同温度热处理的薄膜的组织形貌.结果表明,薄膜主要以核生长方式形成,随着热处理温度的提高,溅射薄膜颗粒增大,表面粗糙度增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林文松	上海工程技术大学材料科学与工程学院	88	565	13.0	21.0
2	何亮	上海工程技术大学材料科学与工程学院	38	131	4.0	11.0
3	来赟晟	上海工程技术大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0