VOx/TiOx/Ti多层薄膜的制备工艺与内耗研究

• 作者: 宋泽润 方广志 李合琴 沈洪雪
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: Vox/TiOx/Ti多层薄膜 磁控反应溅射 电阻温度系数 内耗
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 20-23
• 页数: 4页
• 分类号: T1M3
• 字数: 2989字
• 语种: 中文

摘要

用磁控反应溅射法在玻璃和镅片衬底上制备Vox/TiOx/Ti多层薄膜.用X射线衍射(XRD)、QJ31单臂电桥、薄膜内耗仪等测试了薄膜的晶体结构、电阻、内耗.分别进行了薄膜的制备工艺与内耗研究.测试分析结果表明:试样的晶体结构、电阻-温度曲线、杨氏模量的突变均表明多层薄膜在66℃左右发生相变.样品的电阻温度系数为-4.35%/℃.并且真空退火有利于二氧化钒相生成.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李合琴	合肥工业大学材料科学与工程学院	71	273	8.0	12.0
2	宋泽润		11	18	3.0	4.0
3	方广志	合肥工业大学材料科学与工程学院	4	5	1.0	2.0
4	沈洪雪	合肥工业大学材料科学与工程学院	4	5	1.0	2.0