TiAl合金表面阴极微弧制备的Al2O3膜结构与性能

• 作者: 李夕金 田华 程云君 程国安 薛文斌 郑瑞廷
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 阴极微弧沉积 TiAl合金 Al2O3膜 岛温氧化
• 年，卷（期）: 2009,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 115-118
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.2:TG174.45
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2009.02.009

摘要

以Al(NO3)3乙醇溶液为电解液,采用阴极微弧放电沉积方法,在TiAl合金表面制备连续的Al2O3薄膜,并对膜的结构与性能进行研究.利朋扫描电镜(SEM)观察到样品表面分布着熔融状颗粒,颗粒的平均直径约20μm,颗粒中间有小孔存在.X射线衍射(XRD)分析表明氧化膜的相成分主要为α-Al2O3和γ-Al2O3相,还有少量的ε-Al2O3相;氧化膜中α-Al2O3和γ-Al2O3的相对含量随着制备电压改变而变化.显微划痕实验测得膜与TiAl基体之间结合力大于20 N,表明制得的氧化膜与基体有良好的结合力.900℃的高温氧化实验表明氧化膜能够有效地提高基体的抗氧化性能.