新型等离子体束溅射镀膜机

• 作者: 何鹏 方立武 李志胜 王永彬
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子体束溅射镀膜机 铁磁性材料 反应溅射 靶材利用率
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 23-26
• 页数: 4页
• 分类号: TB43
• 字数: 2214字
• 语种: 中文

摘要

本文介绍了新型的等离子体束溅射镀膜机的系统组成、特点、试验结果等内容.该镀膜机将等离子体发生和控制技术应用于溅射镀膜中,克服了磁控溅射的靶材利用率低及难以沉积铁磁性材料的缺点.使用该镀膜机成功地进行了溅射镀膜的试验,试验结果得到了刻蚀均匀性较高的靶材,其靶偏压与靶电流的关系与国外结果相吻合.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方立武		3	9	2.0	3.0
2	王永彬		1	2	1.0	1.0
3	何鹏		1	2	1.0	1.0
4	李志胜		2	3	1.0	1.0