偏心距在偏心抛光中对去除速率均匀性的影响

• 作者: 左敦稳 朱永伟 李军 李茂 王军
• 来源期刊: 机械制造与自动化
• 学科: 工学
• 关键词: 材料去除速率 定偏心抛光 偏心距+
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 所属期刊栏目: 机械制造与自动化
• 页码范围: 29-33
• 页数: 5页
• 分类号: TG580.692
• 字数: 3280字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-5276.2009.01.009

摘要

从相对运动的角度出发,首先分析了在固结磨料抛光中工具与工件的相对运动轨迹.而后从纯机械去除的角度出发,利用有限元的思想,建立了工件去除速率的数学模型,并分析了偏心距对工件去除速率均匀性的影响规律.结果表明:在偏心距一定时,如果工件外圈有一部分和抛光垫内圈或者外圈相交,那么工件的去除速率沿半径方向的变化为:先增大后急剧减小;如果全部工件完全与抛光垫接触,那么工件的去除速率沿半径方向的变化趋势为不断增大,而且先增大较快,后趋于平缓.在偏心距变化时,当工件完全位于抛光垫上时,随着偏心距的增大,工件上各个半径处的去除速率有明显增大的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
2	李军	南京航空航天大学机电学院	69	660	16.0	22.0
3	朱永伟	南京航空航天大学机电学院	128	1288	19.0	26.0
4	王军	南京航空航天大学机电学院	22	346	11.0	18.0
5	李茂	南京航空航天大学机电学院	9	183	7.0	9.0