CuS纳米粒子/分子沉积膜的制备及其摩擦学性能研究

• 作者: 张嗣伟 王德国 郭岩宝
• 来源期刊: 纳米科技
• 学科: 工学
• 关键词: 分子沉积膜 原位生长 CuS纳米粒子
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 显微与测量
• 页码范围: 49-53
• 页数: 5页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文

摘要

利用分子沉积技术制备了PDDA/PAA分子沉积膜,然后在膜中原位反应生长了CuS纳米粒子,紫外-可见分光光度计、XPS及原子力显微镜(AFM)分析表明,CuS纳米粒子在膜中分布均匀,团聚现象不明显,纳米粒子的粒径随原位反应时间的增加而增加,AFM的力学测试表明,该膜具有良好的减摩抗磨性能.