Mo+C离子注入多弧离子镀TiN薄膜研究

• 作者: 刁训刚 庞浩 王玉 陶冶
• 来源期刊: 物理测试
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 TiN 离子注入 TEM
• 年，卷（期）: 2009,（3）
• 所属期刊栏目: 实验研究
• 页码范围: 32-36
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.445
• 语种: 中文

摘要

Mo+C离子注入TiN薄膜后,在TiN薄膜注入层形成纳米纤维结构.纳米纤维丛排列整齐,结构完整,长度较长,均匀弥散在TiN晶体中.在距离表面深度为50～150 nm的区域,也能够产生TiN纳米纤维,但长度较短,排列基本规则.能谱分析显示,注入能量为80 keV的Mo离子注入TiN薄膜表面内的注人投影射程为50 Tim左右,但离子注入的影响区域远大于投影射程;新生成的纳米纤维丛为富Mo相,Mo含量为17%～25%.Mo+C二元注入的表面强化效果优于Mo一元注入,较高剂量的Mo+C注入条件下,TiN薄膜表面显微硬度更高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刁训刚	北京航空航天大学理学院	55	359	10.0	16.0
2	陶冶	北京航空航天大学材料科学与工程学院	29	341	11.0	17.0
3	王玉	北京航空航天大学材料科学与工程学院	2	7	2.0	2.0
4	庞浩	北京航空航天大学材料科学与工程学院	1	3	1.0	1.0