悬浮型光催化纳滤膜反应器处理H酸溶液工艺中操作压力变化的机理研究:机理分析

• 作者: 刘军 高冠道
• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 化学
• 关键词: 光催化氧化 纳滤膜分离 耦合工艺 H酸 过膜压力 变化机理
• 年，卷（期）: 2009,（7）
• 所属期刊栏目: 继续教育
• 页码范围: 25-28
• 页数: 4页
• 分类号: TQA051.8|O643.3
• 字数: 4362字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1124.2009.07.009

摘要

首次通过系列黑暗条件下的膜分离空白试验对悬浮型光催化纳滤膜反应器中耦合分离膜操作压力的变化机理进行研究.耦合工艺中分离膜操作压力的变化主要由目标污染底物及其光催化降解中间产物的吸附、堵塞污染形成,与目标污染底物光催化降解速率以及中间产物的组成及数量随时间变化的关系密切,因而耦合分离膜初始操作压力的大小对其后续变化过程及变化规律影响颇大.由于耦合分离膜循环液中悬浮态光催化剂颗粒对耦合分离膜及被吸附其上的污染物分子强烈的冲刷作用,使得耦合分离膜操作压力在连续运行一定时间后下降至初始压力以下0.20～0.50kPa.在任何操作压力条件下,悬浮态光催化剂溶液均不对耦合分离膜形成膜污染现象,这与其在水相中的絮凝聚合过程有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高冠道	南开大学环境污染过程与基准教育部重点实验室	13	111	6.0	10.0
2	刘军		13	18	2.0	4.0