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摘要:
"钛/TiO2:氧化膜/溶液"界面电极体系的电化学性能主要决定于钛表面的TiO2氧化物膜.本文利用多种电化学技术,结合半导体物理的Mott-schottky分析和EiIlstein方程,研究了金属钛在1.0 mol·L-1HCIO2溶液中表面半导体TiO2:氧化膜的生长及氧化膜中氧空位点缺陷在外加电场作用下的传输性能,并根据离子性电荷传输与电子性电荷传输对电场变化响应时间之不同特点,确定氧化膜中点缺陷扩散系数.结果表明,电极电位或阳极析氧反应对稳态电流(ivs)、氧化膜的阳极化常数(a)、膜中电场强度(A)、以及膜中氧空位点缺陷的扩散系数(D0)等重要物理化学参数,均有显著影响,并依据氧化膜中的结构变化进行分析.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 钛表面二氧化钛膜中氧空位点缺陷传输性能的电化学研究
来源期刊 电化学 学科 化学
关键词 TiO2氧化膜 氧空位点缺陷 扩散系数 电容测量 Mott-Schonky分析
年,卷(期) 2009,(3) 所属期刊栏目 研究论文
研究方向 页码范围 320-325
页数 6页 分类号 O646
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郁章玉 50 174 8.0 10.0
2 孔德生 16 40 4.0 5.0
3 吕文华 4 4 1.0 2.0
4 冯媛媛 9 15 3.0 3.0
5 刘海燕 3 4 1.0 2.0
6 范文娟 1 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
TiO2氧化膜
氧空位点缺陷
扩散系数
电容测量
Mott-Schonky分析
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电化学
双月刊
1006-3471
35-1172/O6
大16开
福建省厦门市厦门大学D信箱(化学楼)
34-61
1995
chi
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1802
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