常温溅射DLC膜的工艺研究

• 作者: 何光宗 吴小丽 李钱陶 熊长新
• 来源期刊: 光学与光电技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 类金刚石膜 沉积速率 透过率
• 年，卷（期）: 2009,（4）
• 所属期刊栏目: 光学薄膜
• 页码范围: 30-32
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4+1
• 字数: 2132字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-3392.2009.04.008

摘要

常温下,采用磁控溅射技术成功地在Ge基底上制备了类金刚石膜,并研究了溅射功率、碳氢气体与氩气流量比、溅射频率、基底负偏压等工艺参数对类金刚石膜沉积速率的影响和薄膜的光学性能.结果表明:溅射功率、溅射频率、碳氢气体与氩气流量比对沉积速率有显著的影响.沉积速率随着溅射功率的增大而增大,随着溅射频率的减小而增大.随着碳氢气体与氩气流量比、基底负偏压的增大沉积速率先增大后降低.制备的类金刚石膜具有较宽的光谱透明区,Ge基底单面沉积的类金刚石膜其峰值透过率最高达到63.99%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	熊长新	华中光电技术研究所一武汉光电国家实验室	11	60	4.0	7.0
2	李钱陶	华中光电技术研究所一武汉光电国家实验室	9	49	4.0	6.0
3	何光宗	华中光电技术研究所一武汉光电国家实验室	4	14	2.0	3.0
4	吴小丽	华中光电技术研究所一武汉光电国家实验室	2	4	2.0	2.0